飛凱材料在集成電路制造領域提供多種高純溶劑，能夠應用于12吋晶圓制造的光刻膠洗邊、蝕刻及后清洗制程。除此之外，公司提供定制化產品服務，能夠根據不同客戶的不同需求開各種高純試劑。

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飛凱材料DUV底部抗反射層材料，搭配合適厚度可以將Al、Cu、W、GaAs等襯底反射率降低到1%以下；具有良好的填隙能力以拓展工藝窗口，分別適用于各類KrF光刻制程。

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飛凱材料KX系列G/H/I線通用高分辨率正性光刻膠，適合各種近紫外高分辨步進掃描光刻設備。選擇合適的旋涂步驟及光刻工藝，可根據客戶需求定制。

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